반도체 품질을 올리는 잔류물 청소반, 세정공정이란?
웨이퍼 한 장이 반도체로 탄생하기 위해서는 짧게는 한 달, 길게는 두 달의 시간 동안 확산공정, 포토공정, 식각공정, 증착공정, 이온주입공정 등을 수백 여 단계의 공정을 거치게 됩니다. 이때 확산공정, 식각공정, 연마공정 등 각 공정과 공정 사이에 반복적으로 진행되는 중요한 공정이 있습니다. 바로 세정공정(Cleaning) 입니다. 사람이 나쁜 균에 오염되지 않게 자주 몸을 씻듯이 미세공정을 다루는 반도체도 완벽한 반도체를 만들기 위해 세정하는 과정을 반복적으로 거치는데요. 반도체 수율을 높이기 위한 중요한 세정 공정에 대해 알아보겠습니다. 반도체의 품질을 지키기 위한 필수과정, 세정공정(Cleaning) 세정공정이란 화학물질처리, 가스, 물리적 방법을 통해 웨이퍼 표면에 있는 불순물을 제거하는 공정입니..
