화성캠퍼스 V1 라인 본격 가동, 미래의 빛 EUV를 위해 모인 사람들
차세대 반도체를 위한 새로운 도전! 삼성전자가 EUV 전용 V1 라인을 본격 가동했습니다. 지난 2018년 2월, 경기도 화성에 ‘EUV 라인 기공식’을 열고 라인 건설에 착수한지 2년여 만입니다. 반도체는 미세 공정을 통해 집적도를 높이고 반도체의 성능과 전력효율을 높이며 진화해왔습니다. 7나노 이하 미세 공정에 핵심 역할을 할 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선, 파장 13.5nm)는 기존 반도체 노광 공정에 적용되고 있는 불화아르곤(ArF, 파장 193nm)에 비해 파장이 짧습니다. 이를 통해 보다 세밀한 반도체 회로 패턴을 구현을 위해 여러 번 공정을 거쳐야 하는 멀티 패터닝(Multi-Patterning) 과정을 줄여 성능과 생산성을 향상시킬 수 있습니다. 삼성전자 V1 라인..
