반도체 제조에 사용되는 순수한 물, ‘초순수’
반도체 제조에 있어서 물은 필수적인 요소입니다. 때문에 일반적으로 반도체 사업장은 용수 공급이 원활한 곳에 자리잡고 있습니다.
반도체 공정에서 물은 주로 반도체 제조 공정, 공정 가스 정화(Scrubber), 클린룸의 온/습도 조절 등에 사용되는데요. 이번 시간에는 초미세 반도체 제조 공정에 사용되는 물, 바로 ‘초순수’의 개념에 대해 알아보겠습니다.
반도체와 물, ‘초순수’란 무엇일까?
초순수(UPW, Ultra Pure Water)란 일반적인 물 속의 무기질, 미립자, 박테리아, 미생물, 용존 가스 등을 제거한 고도로 정제된 물입니다. 이온 성분을 제거했다는 의미로 DIW(De-ionized Water) 라고도 합니다.
반도체는 이른바 8대공정이라고 불리는 수많은 공정을 반복적으로 거치는데요. 초순수는 실제 반도체 공정에서 수많은 공정 전후에 진행되는 세정 작업에 주로 사용됩니다. 식각공정 이후 웨이퍼를 깍고 남은 부스러기를 씻어내거나, 이온주입공정 이후 남은 이온을 씻어내는 것 등이죠. 이 외 웨이퍼 연마나 웨이퍼 절단 시에도 초순수를 사용합니다.
초순수는 다양한 공정에서 사용되는 가장 훌륭한 세척제라고 할 수 있는데요. 반도체 생산 공정에서 ‘초순수’를 사용하면 어떤 효과가 있을까요?
나노미터 단위의 초미세공정을 다루는 반도체는 각 공정 전후에 남아있는 작은 입자 하나에도 오류가 생길 수 있습니다. 때문에 각 공정 사이사이 웨이퍼를 정제된 물을 사용해 씻어내는 과정을 거침으로써 청정도를 확보하고 반도체 생산성, 즉 수율을 높입니다.
반도체와 물의 ‘순수’한 세계, 재미있게 보셨나요? 우수한 품질의 반도체 뒤에 조금의 불순물도 용납하지 않는 ‘초순수’라는 물이 있다는 것 기억해주세요!
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